普乐斯等离子清洗设备行业观察，3纳米已渐行渐近
文章导读：普乐斯等离子清洗设备行业观察，大家都知道，制程越小，晶体管栅极越窄，功耗越低，而集成难度和研发成本也将加倍提升。3nm是一个将近物理ji限的节点，这需要产业链各个环节的努力。
普乐斯等离子清洗设备行业观察，身为摩尔定律忠实的跟随者与倡导者，台积电、三星已经挑起3nm的战局。据了解，三星已经完成了第1个3nm制程的开发，准备2022年规模生产3nm芯片，先前台积电也准备2022年量产3nm。如果没有意外，3nm芯片将在后年来临，对半导体产业链提出新的挑战。
有报道称，三星已成功研发出第1个基于GAAFET的3nm制程，预估2022年进入量产。与7nm工艺相比，3nm工艺可将核心面积减少45%，功耗降低50%，性能提升35%。按照三星的研发路线图，在6nmLPP之后，还有5nmLPE、4nmLPE两个节点，随后进入3nm节点，分为GAE(GAAEarly)以及GAP(GAAPlus)两代。去年5月，三星的3nmGAE设计套件0.1版本已经就绪，以协助客户尽快启动3nm设计。三星预估该技术将在下一代手机、网络、自动驾驶、人工智能及物联网等设备中应用。
以2022年量产为目标的台积电，也在按计划推进3nm研发。台积电ceoCCWei曾表示，台积电在3nm节点技术开发进展顺利，已经与早期客户进行接触。台积电投资6000亿新台币的3nm宝山厂也于去年通过了用地申请，预估2020年动工，2022年量产。
台积电在7nm节点取得了jue对优势，在5nm也进展顺利，获得了苹果A14等订单。但三星并没有放松追逐的脚步，准备到2030年前在半导体业务投资1160亿美元，以增强在非内存芯片市场的实力。台积电创始人张忠谋此前对媒体表示，台积电与三星的战争都还没结束，台积电仅仅 赢得了一两场战役，可整个战争都还没赢，目前台积电暂时占优。
本文来源：中国电子报 作者：张心怡
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普乐斯电子10年专注研制等离子清洗机，等离子表面处理设备，已通过ISO9001质量体系和欧盟CE认证，为电子、半导体、汽车、yi疗等领域的客户提供清洗，活化，刻蚀，涂覆的等离子表面处理解决方案，是行业内值得信赖的等离子清洗机厂家。如果您想要了解更多关于产品的详细内容或在设备使用中有疑问，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯恭候您的来电！
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