上海微电子国产28nm工艺光刻机交付在即，普乐斯等离子清洗机
文章导读：据媒体报道了解，上海微电子披露，其将在2021-2022年交付28nm工艺的国产的沉浸式光刻机，普乐斯等离子清洗机观察。
“缺芯少屏”一直以来都是对我国半导体行业的描述，中兴残躯尚留南岸，而今美国屠刀又指华为，更让国人认识到中国在半导体芯片领域的薄弱，而在芯片制造领域中来说，光刻机必定是其中的关键设备。普乐斯等离子清洗机介绍。
据各方媒体报道，上海微电子装备(集团)股份有限公司披露，其将在2021-2022年交付第yi台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。虽然，这与当今荷兰阿斯麦尔公司的5nmEUV光刻机相比还有数代的隔阂，但是差距已经有所缩小，毕竟在此之前国产光刻机还仅停留在90nm。
可以说，这台即将交付的28nm光刻机对中国的半导体产业以及上海微电子自身来说都是具有重要意义。因为虽然目前手机芯片即将进入5nm制程工艺，但是在物联网、工业、新型存储等众多市场，28nm仍是比较主流的制程工艺节点。而且从台积电的2020年一季度的营收占比来看，其28/40/45/65nm的总体占比高达30%。这在一定程度上说明，哪怕中国完全失去芯片进口渠道，中国再上述市场上还是有实现自主化的可能。
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普乐斯从2011年开始涉足半导体行业至今已有9年，专注研制等离子清洗机，等离子体清洗机，等离子清洗设备，常压大气和低压真空型低温等离子表面处理机，在光刻胶去除、打线即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工艺方面积累了较为丰富的等离子表面处理经验，合作客户接近20家，我们正努力成为半导体封装领域的等离子表面处理工艺解决方案服务商。是行业内值得信赖的等离子清洗机厂家。等离子表面处理过的样品包括：硅晶圆、玻璃基板、陶瓷基板、IC载板、铜引线框架等。如果您想要了解更多关于产品的详细内容或在设备使用中有疑问，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯恭候您的来电！
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